|
|||||
|
|
| 干式腐蚀 | |
| 作者姓名： | 麻莳立男 黎辉 |
| 摘 要： | 现在,以半导体集成电路为代表的微电子元件所用的微细图形,是由以照相技术和化学腐蚀为中心的工艺完成的。但是,化学腐蚀具有如下的问题:(1)最近,由于图形向微细化发展,既使已用到此项极限技术,要进行十分良好的腐蚀也还是相当困难的。(2)工艺带来了腐蚀表面的氧化、表面对水分的吸附、侧向腐蚀等现象,这些都是使用水溶液腐蚀剂所不可避免的本质困难。(3)药品的水溶液将发生公害。干式腐蚀技术,能够解决以上问题,它是一种利用离子轰击构成的溅射腐蚀和活性 |
| 本文献已被 CNKI 等数据库收录！ | |