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氨化法制备大量单晶GaN纳米线及其特性研究
引用本文:薛成山,秦丽霞,庄惠照,陈金华,杨兆柱,李红.氨化法制备大量单晶GaN纳米线及其特性研究[J].微细加工技术,2008(2).
作者姓名:薛成山  秦丽霞  庄惠照  陈金华  杨兆柱  李红
作者单位:山东师范大学,半导体研究所,济南,250014
摘    要:利用磁控溅射技术先在硅村底上制备Ga2O3/Co薄膜,然后在管式炉中通入流动的氨气在950℃对薄膜进行氨化,反应后成功制备出大量GaN纳米线.采用X射线衍射(xRD)、傅里叶红外吸收光谱(FTIR)、扫描电子显微镜(SEM)和高分辨透射电子显微镜(HRTEM)对样品进行分析.结果表明,采用此方法得到了六方纤锌矿结构的GaN单晶纳米线,纳米线的直径在50 nm~150 nm范围内,长度为几十微米.

关 键 词:磁控溅射  氮化镓纳米线    X射线衍射

Synthesis and Characterization of Large-scale Single Crystalline GaN Nanowires through Ammonification Technique
XUE Cheng-shan,QIN Li-xia,ZHUANG Hui-zhao,CHEN Jin-hua,YANG Zhao-zhu,LI Hong.Synthesis and Characterization of Large-scale Single Crystalline GaN Nanowires through Ammonification Technique[J].Microfabrication Technology,2008(2).
Authors:XUE Cheng-shan  QIN Li-xia  ZHUANG Hui-zhao  CHEN Jin-hua  YANG Zhao-zhu  LI Hong
Institution:XUE Cheng-shan,QIN Li-xia,ZHUANG Hui-zhao,CHEN Jin-hua,YANG Zhao-zhu,LI Hong(Institute of Semiconductors,Shangdong Normal University,Ji\'nan 250014,China)
Abstract:
Keywords:Magnetron sputtering  GaN nanowire  Co  X-ray diffraction  
本文献已被 CNKI 维普 万方数据 等数据库收录!
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