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责任编辑
分类号
杂志ISSN号
掺硼金刚石膜/碳膜平面式复合电极的制备及电化学性能
作者姓名:
练发东
芶立
作者单位:
四川大学材料科学与工程学院;
基金项目:
电子薄膜与集成器件国家重点实验室开放课题资助(KFJJ201313)
摘 要:
采用微波等离子体化学气相沉积法在本征硅上制备掺硼金刚石膜/碳膜平面式复合电极,其中硅片的一面为掺硼金刚石膜,另一面为碳膜。通过SEM和拉曼光谱分析了薄膜的表面形貌和成分,掺硼金刚石膜为纳米级金刚石,碳膜表面有均匀分布的凹坑;利用四探针、循环伏安法和交流阻抗法表征电极导电性和电化学性能,随着沉积时间增加,电极方阻减小;在铁氰化钾溶液中电极发生准可逆氧化还原反应,电势差为119mV,在103Hz附近阻抗为113Ω;多巴胺的检测限为5μmol·L-1。
关 键 词:
化学气相沉积(CVD)
掺硼金刚石膜
碳膜
复合电极
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