| 大直径铌酸锂晶片的化学机械抛光研究 |
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| 引用本文： | 王占银,孔勇发,陈绍林,许京军.大直径铌酸锂晶片的化学机械抛光研究[J].人工晶体学报,2006,35(1):99-103. |
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| 作者姓名： | 王占银 孔勇发 陈绍林 许京军 |
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| 作者单位： | 南开大学弱光非线性光子学材料先进技术及制备教育部实验室,天津,300457 |
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| 摘 要： | 本文采用化学机械抛光方法,以SiO2作为抛光液的研磨介质,对76mm Z切向的铌酸锂晶片的抛光进行了深入的研究.分析了影响铌酸锂晶片抛光效果的因素,通过优化工艺参数,使铌酸锂的表面粗糙度Ra达到0.387nm,平面面形误差小于4μm.
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| 关 键 词： | 大直径 铌酸锂晶片 化学机械抛光 SiO2溶胶抛光液 |
| 文章编号： | 1000-985X（2006）01-0099-05 |
| 收稿时间： | 2005-06-02 |
| 修稿时间： | 2005-06-02 |
Study on the Chemical Mechanical Polishing of Large Diameter Lithium Niobate Wafer |
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| WANG Zhan-yin,KONG Yong-fa,CHEN Shao-lin,XU Jing-jun.Study on the Chemical Mechanical Polishing of Large Diameter Lithium Niobate Wafer[J].Journal of Synthetic Crystals,2006,35(1):99-103. |
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| Authors: | WANG Zhan-yin KONG Yong-fa CHEN Shao-lin XU Jing-jun |
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| Institution: | Key Laboratory of Advanced Technique and Fabrication for Weak-light Nonlinear Photonics Materials, Ministry of Education, Nankai University, Tianjin 300457, China |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | large diameter lithium niobate wafer chemical mechanical polishing SiO_2 sol |
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