MgO(001)表面上沉积MgO薄膜过程的分子动力学模拟 |
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作者姓名: | 刘美林 张宗宁 李蔚 赵骞 祁阳 张林 |
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作者单位: | (1)东北大学理学院,沈阳 110004; (2)沈阳工业大学理学院,沈阳 110178 |
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基金项目: | 国家自然科学基金(批准号:50572013)资助的课题. |
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摘 要: | 采用分子动力学方法模拟了MgO分子连续沉积于MgO(001)表面上的薄膜生长过程,分析了衬底温度和分子入射能对MgO分子在衬底表面上的扩散能力以及对衬底表面覆盖率的影响.模拟结果表明,随着衬底温度的升高,在衬底表面上沉积的MgO分子扩散能力增强,MgO薄膜层中空位缺陷变少.低温下,分子入射能的增大有助于提高衬底表面覆盖率;高温下,表面覆盖率随入射能增大到3.0 eV时达到最大值,入射能继续增大,表面覆盖率减小.关键词:MgO薄膜生长分子动力学计算机模拟表面扩散
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关 键 词: | MgO薄膜生长 分子动力学 计算机模拟 表面扩散 |
收稿时间: | 2008-12-29 |
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