| MgO（001）表面上沉积MgO薄膜过程的分子动力学模拟 |
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| 引用本文： | 刘美林,张宗宁,李蔚,赵骞,祁阳,张林.MgO（001）表面上沉积MgO薄膜过程的分子动力学模拟[J].物理学报,2009,58(13):199-S203. |
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| 作者姓名： | 刘美林 张宗宁 李蔚 赵骞 祁阳 张林 |
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| 作者单位： | (1)东北大学理学院，沈阳 110004; (2)沈阳工业大学理学院，沈阳 110178 |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金（批准号：50572013）资助的课题. |
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| 摘 要： | 采用分子动力学方法模拟了MgO分子连续沉积于MgO（001）表面上的薄膜生长过程，分析了衬底温度和分子入射能对MgO分子在衬底表面上的扩散能力以及对衬底表面覆盖率的影响.模拟结果表明，随着衬底温度的升高，在衬底表面上沉积的MgO分子扩散能力增强，MgO薄膜层中空位缺陷变少.低温下，分子入射能的增大有助于提高衬底表面覆盖率；高温下，表面覆盖率随入射能增大到3.0 eV时达到最大值，入射能继续增大，表面覆盖率减小.
关键词：
MgO薄膜生长
分子动力学
计算机模拟
表面扩散
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| 关 键 词： | MgO薄膜生长 分子动力学 计算机模拟 表面扩散 |
| 收稿时间： | 2008-12-29 |
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