| Fe/Si多层膜的层间耦合与界面扩散 |
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| 引用本文： | 倪经,蔡建旺,赵见高,颜世申,梅良模,朱世富. Fe/Si多层膜的层间耦合与界面扩散[J]. 物理学报, 2004, 53(11): 3920-3923 |
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| 作者姓名： | 倪经 蔡建旺 赵见高 颜世申 梅良模 朱世富 |
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| 作者单位： | (1)山东大学物理与微电子学院，济南 250100; (2)四川大学材料科学与工程系，成都 610064; (3)中国科学院物理研究所磁学国家重点实验室，北京 100080; (4)中国科学院物理研究所磁学国家重点实验室，北京 100080;四川大学材料科学与工程系，成都 610064 |
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| 基金项目： | 国家重点基础研究专项基金资助的课题. |
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| 摘 要： | 对以本征Si及重掺杂ｐ型和ｎ型Si作为中间层的Fe/Si多层膜的层间耦合进行研究，并通过退火，增大Fe，Si之间的扩散，分析界面扩散对层间耦合的影响. 实验结果表明，层状结构良好的制备态的多层膜，Fe，Si之间也存在一定程度的扩散，它是影响层间耦合的 主要因素，远远超过了半导体意义上的重掺杂，使不同种类的Si作为中间层的层间耦合基本 一致.进一步还发现，在一定范围内增大Fe，Si之间的扩散，即使多层膜的层状结构已经有了相当的退化，Fe/Si多层膜的反铁磁耦合强度基本保持不变. 关键词：Fe/Si多层膜层间耦合界面扩散
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| 关 键 词： | Fe/Si多层膜 层间耦合 界面扩散 |
| 收稿时间： | 2003-12-19 |
| 修稿时间： | 2004-04-06 |
The antiferromagnetic coupling and interface diffusion in Fe/Si multilayers |
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| Ni Jing )) Cai Jian_Wang ) Zhao Jian_Gao ) Yan Shi_Shen ) Mei Liang_Mo ) Zhu Shi_Fu ) ). The antiferromagnetic coupling and interface diffusion in Fe/Si multilayers[J]. Acta Physica Sinica, 2004, 53(11): 3920-3923 |
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| Authors: | Ni Jing )) Cai Jian_Wang ) Zhao Jian_Gao ) Yan Shi_Shen ) Mei Liang_Mo ) Zhu Shi_Fu ) ) |
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| Affiliation: | Ni Jing 1)3) Cai Jian_Wang 1) Zhao Jian_Gao 1) Yan Shi_Shen 2) Mei Liang_Mo 2) Zhu Shi_Fu 3) 1) |
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| Abstract: | The antiferromagnetic coupling in Fe/Si multilayers was investigated with spa cers varying from pure Si to heavy-doped n-type and p-type Si. It was found that interlayer diffusion between Fe and Si occurred even though the multilayers sho wed well-defined layer structure, and the diffusion dominated the hea vy-doped Si, which made no difference at all for the antiferromagnetic coupl ing with different type of Si. Furthermore, the antiferromagnetic coupling in Fe/Si multi lay ers still goes on while the diffusion between Fe and Si layers enhanced and the layer structure was degraded to some extent after annealing. |
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| Keywords: | Fe/Si multilayers antiferromagnetic coupling interface diffusion |
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