| 吸附溶出伏安法测定痕量砷的研究 |
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| 引用本文： | 范华均,施文赵,蔡乾涛,李翱. 吸附溶出伏安法测定痕量砷的研究[J]. 分析化学, 1993, 0(1) |
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| 作者姓名： | 范华均 施文赵 蔡乾涛 李翱 |
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| 作者单位： | 华中理工大学化学系，华中理工大学化学系，华中理工大学化学系，华中理工大学化学系 武汉 430074 四川轻化工学院化工系，武汉 430074，武汉 430074，武汉 430074 |
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| 摘 要： | 在稀盐酸底液中,砷(Ⅲ)与吡咯烷二硫代甲酸铵(APDC)形成的络合物在悬汞电极(HME)上有良好的吸附溶出行为,于—0.53V(vs. SCE. )处有一灵敏的二次导数溶出峰。在1.3×10~(-9)—2.6X10~(-7)mol/As(Ⅲ)浓度范围内,峰高与As(Ⅲ)浓度有良好的线性关系,检出限为1.3×10~(-10)~mol/L。曾用本法测定两种标样以及茶叶中的砷,结果满意。本文还研究了电流性质及电极过程机理。
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| 关 键 词： | 砷 吡咯烷二硫代甲酸铵 吸附溶出伏安法 |
Determination of Trace Amouts of Arsenic by Adsorptive Stripping Voltammetry |
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| Fan Huajun. Shi Wenzhao,Cai Qiantao. Li Ao. Determination of Trace Amouts of Arsenic by Adsorptive Stripping Voltammetry[J]. Chinese Journal of Analytical Chemistry, 1993, 0(1) |
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| Authors: | Fan Huajun. Shi Wenzhao Cai Qiantao. Li Ao |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | Arsenic Ammonium pyrrolidine dithiocarbamate Adsorptive stripping voltammetry. |
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