| 红外30μm亚波长抗反射光栅的制作 |
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| 引用本文： | 曹召良,卢振武,张平,王淑荣,赵晶丽,李凤有.红外30μm亚波长抗反射光栅的制作[J].红外与毫米波学报,2004,23(1):6-10. |
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| 作者姓名： | 曹召良 卢振武 张平 王淑荣 赵晶丽 李凤有 |
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| 作者单位： | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所应用光学国家重点实验室,吉林,长春,130022;中国科学院长春光学精密机械与物理研究所光电传感技术研究室,吉林,长春,130022;中国科学院长春光学精密机械与物理研究所应用光学国家重点实验室,吉林,长春,130022;南开大学现代光学研究所,光电信息,技术科学教育部重点实验室,天津,300071 |
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| 基金项目： | 中科院创新基金 ( 2 0 0 2LQ .0 4) |
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| 摘 要： | 利用严格耦合波理论设计出亚波长抗反射光栅，并通过等离子体辅助刻蚀制作出了立方状抗反抗光栅．测量结果发现该光栅具有良好的增透特性，并且测得光栅参数和理论设计参数基本一致，表明等离子体辅助刻蚀是制作深光栅的有效方法．对实验结果进行了分析和讨论，结果表明，临界周期点随折射率的变化规律在亚波长抗反射光栅的制作中有重要的作用．
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| 关 键 词： | 严格耦合波理论 亚波长 抗反射 光栅 |
| 文章编号： | 1001-9014(2004)01-0006-05 |
| 收稿时间： | 2002/12/9 |
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