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具有氧化铝栅电介质的MOS晶体管
引用本文:黄子伦.具有氧化铝栅电介质的MOS晶体管[J].微电子学,1975(3).
作者姓名:黄子伦
摘    要:本专利提出一种以AlO_3膜作为栅电极绝缘体的MOS晶体管的制备方法,包括汽相淀积氧化物工艺,以及尔后在湿气气氛中于700℃左右热处理淀积膜。

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