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NiIn(Ge)/n-GaAs欧姆接触的研究
引用本文:范缇文,丁孙安,张金福,许振嘉.NiIn(Ge)/n-GaAs欧姆接触的研究[J].半导体学报,1995,16(7):541-545.
作者姓名:范缇文  丁孙安  张金福  许振嘉
作者单位:中国科学院半导体研究所
摘    要:本文报道了一种用电子束蒸发制备铟基金属与n型GaAs单晶欧姆接触NiIn(Ge)/n-GaAs材料.其接触电阻率ρc对随后的热退火温度存在着典型的U型依赖关系.透射电子显微镜(TEM)及俄歇电子能谱(AES)的分析结果指出ρc值的大小很大程度取决于GaAs衬底与金属接触材料间InGaAs相的形成及其覆盖度.文中还对金属接触材料与砷化镓相互作用的动力学进行了讨论.

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