| 光弹性方法中的地基模拟 |
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| 引用本文： | 王廷栋,郑艳春.光弹性方法中的地基模拟[J].实验力学,1991,6(4):373-377. |
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| 作者姓名： | 王廷栋 郑艳春 |
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| 作者单位： | 兰州大学，兰州大学 |
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| 摘 要： | 当用光弹性模型研究土地基上的弹性结构的应力时,结构及模型材料的弹性模量(E_(ep),E_(em))和地基及模拟地基材料的弹性模量(E_p,E_m)应该满足E_(ep)/E_p=E_(em)/E_m。本文提供的地基模拟方法,在保持土的变形特点的情况下,E_m=1.54kg/cm~2(在115℃时)。首次使 E_(em)/E_m=123。
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| 关 键 词： | 光弹性 地基 模拟 弹性结构 应力 |
Photoelastic Analysis of Subgrade |
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| Wang Tingdong Zheng Yanchun.Photoelastic Analysis of Subgrade[J].Journal of Experimental Mechanics,1991,6(4):373-377. |
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| Authors: | Wang Tingdong Zheng Yanchun |
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| Institution: | Lanzhou University |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | photoelasticity subgrade simulation |
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