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| 含噻吩基的三硅烷在辐照下的反应 | |
| 引用本文： | 吴世晖,钱虎,武戈,江南. 含噻吩基的三硅烷在辐照下的反应[J]. 有机化学, 1993, 13(3): 293-294 |
| 作者姓名： | 吴世晖 钱虎 武戈 江南 |
| 作者单位： | 复旦大学化学系 |
| 摘 要： | 通过类似的格氏反应合成了2-苯基-2-呋喃基六甲基三硅烷和2-苯基-2-噻吩基六甲基三硅烷.前者在2,3-二甲基-1,3-丁二烯存在时的光解导致正常的硅烯-烯烃加成和硅烯C-H插入反应.而噻吩基三硅烷在甲醇一环乙烷体系中被光解,产生自由基反应,我们怀疑噻吩中的硫原子对硅烷自由基有强烈的稳定作用.通过对典型的自由基反应产品的鉴定以及它的用自由基猝灭剂的猝灭产品的电子自旋共振谱也支持了这一结果. |
| 关 键 词： | 电子自旋共振谱法 呋喃 P 自由基反应 插入反应 加成反应 硅烷 噻吩 P 猝灭 光解 |
Reactions of thienyl containing trisilane under irradiation |
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| Abstract: | Photolysis of 2-phenyl-2-(2-thienyl)hexamethyltrisilane in MeOH/cyclohexene afforded radical reaction products. The sulfur atom of the thienyl group was suspected of stabilizing a silyl radical. The presence of trimethylsilyl(phenyl)(2-thienyl)silyl radical was supported by identification of its reaction products and by an ESR spectrum (no data) of its quenching product with 2-methyl-2-nitrosopropane. |
| Keywords: | ELECTRON SPIN RESONANCE SPECTROMETRY FURAN P FREE RADICAL REACTION INSERTION REACTION ADDITION REACTION SILANE THIOPHENE P QUENCHING PHOTOLYSIS |
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