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射频磁控溅射法制备BST薄膜及性能研究
引用本文:陈宏伟,杨传仁,符春林,裴亚芳,胡立业.射频磁控溅射法制备BST薄膜及性能研究[J].压电与声光,2005,27(3):297-299,302.
作者姓名:陈宏伟  杨传仁  符春林  裴亚芳  胡立业
作者单位:电子科技大学,微电子与固体电子学院,四川,成都,610054
基金项目:国家"九七三"基金资助项目(Z01)
摘    要:采用射频磁控溅射法制备了钛酸锶钡薄膜材料,研究了薄膜的晶体结构和微观形貌,测试了其偏压特性曲线和电滞回线。初步探讨了εr-E曲线、电滞回线发生平移的原因:上下电极与钛酸锶钡薄膜间的界面势垒不对称。

关 键 词:射频磁控溅射  钛酸锶钡  铁电薄膜  εr-E曲线  电滞回线
文章编号:1004-2474(2005)03-0297-03

Properties and Preparation of Barium Strontium Titanate Thin Films by RF-Magnetron Sputtering
CHEN Hong-wei,YANG Chuan-ren,FU Chun-lin,PEI Ya-fang,HU Li-ye.Properties and Preparation of Barium Strontium Titanate Thin Films by RF-Magnetron Sputtering[J].Piezoelectrics & Acoustooptics,2005,27(3):297-299,302.
Authors:CHEN Hong-wei  YANG Chuan-ren  FU Chun-lin  PEI Ya-fang  HU Li-ye
Abstract:
Keywords:
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