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钴/玻碳离子注入修饰电极伏安法测定呋喃妥因的研究
引用本文:谭学才,邱建丁,李荫,邹小勇,蔡沛祥.钴/玻碳离子注入修饰电极伏安法测定呋喃妥因的研究[J].分析化学,2004,32(7):930-934.
作者姓名:谭学才  邱建丁  李荫  邹小勇  蔡沛祥
作者单位:中山大学化学与化学工程学院,广州,510275;广西民族学院化学与生态工程学院,南宁,530006;中山大学化学与化学工程学院,广州,510275
基金项目:广东省自然科学基金 (No .0 1110 5 ,0 3 15 77),广西壮族自治区自然科学基金 (No .0 14 10 3 7,0 3 42 0 18),广西民族学院引进人才启动基金 (No .OHHX0 0 0 0 2 )资助项目
摘    要:呋喃妥因 (NFT)在 0 .1mol/LHAc NaAc (pH 4 .0 )溶液中于钴 /玻碳 (Co/GC)离子注入修饰电极上产生一灵敏的伏安还原峰 ,峰电位为 - 0 .2 6V(vs.Ag/AgCl) ,峰电流与NFT浓度在 6 .0× 10 -8~ 5 .0× 10 -6mol/L范围内呈线性关系 (r =0 .9987) ,检出限为 1.0× 10 -8mol/L。用线性扫描伏安法和循环伏安法研究了NFT的伏安行为、吸附特性和电极反应机理。测定了电子转移数 (n =4 )、转移系数 (α =0 .5 8)和参与反应的质子数 (X =4 )等电化学参数。结果表明该电极过程为一具有吸附性的不可逆过程。该法用于片剂中NFT含量的测定 ,得到满意的结果。用标准加入法测得该法的回收率为 94 .0 %~ 98.5 %。

关 键 词:Co/GC离子注入修饰电极  呋喃妥因  吸附溶出伏安法

Determination of Nitrofurantoin and Its Electrochemical Behavior at Cobalt Ion Implantation Modified Glassy Carbon Electrode
Tan Xuecai ,Qiu Jianding ,Li Yin ,Zou Xiaoyong ,Cai Peixiang.Determination of Nitrofurantoin and Its Electrochemical Behavior at Cobalt Ion Implantation Modified Glassy Carbon Electrode[J].Chinese Journal of Analytical Chemistry,2004,32(7):930-934.
Authors:Tan Xuecai    Qiu Jianding  Li Yin  Zou Xiaoyong  Cai Peixiang
Institution:Tan Xuecai 1,2,Qiu Jianding 1,Li Yin 1,Zou Xiaoyong 1,Cai Peixiang *1 1
Abstract:
Keywords:Cobalt/glassy carbon ion implantation modified electrode  nitrofurantoin  adsorptive stripping  voltammetry
本文献已被 CNKI 万方数据 等数据库收录!
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