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HVPE外延GaN膜中黄带的光致发光激发谱研究
引用本文:卢佃清,侯玉娟,陆金男,刘学东,张荣.HVPE外延GaN膜中黄带的光致发光激发谱研究[J].物理实验,2004,24(6):19-22.
作者姓名:卢佃清  侯玉娟  陆金男  刘学东  张荣
作者单位:1. 淮海工学院,数理科学系,江苏,连云港,222005
2. 南京大学,物理系,江苏,南京,210093
摘    要:测量了氢化物气相外延方法生长的非特意掺杂和掺碳GaN外延膜的光致发光谱,并在光致发光谱峰位2.25eV(550nm)附近分别测量了光致发光激发谱,对两者进行了比较.从光致发光谱中发现掺碳使黄带明显增强,从光致发光激发谱中看到了掺碳引起的约3.38~2.67eV(367~465nn)范围内的特征激发带.利用CC曲线模型说明了特征激发带和黄带之间的关系,分析了黄带的可能起因.

关 键 词:氢化物气相外延  氮化镓  光致发光谱  光致发光激发谱  黄带  GaN
文章编号:1005-4642(2004)06-0019-04
修稿时间:2004年2月21日

Investigation of photoluminescence excitation spectra of yellow luminescence from GaN films grown by HVPE
LU Dian qing ,HOU Yu juan ,LU Jin nan ,LIU Xue dong ,ZHANG Rong.Investigation of photoluminescence excitation spectra of yellow luminescence from GaN films grown by HVPE[J].Physics Experimentation,2004,24(6):19-22.
Authors:LU Dian qing  HOU Yu juan  LU Jin nan  LIU Xue dong  ZHANG Rong
Institution:LU Dian qing 1,HOU Yu juan 1,LU Jin nan 1,LIU Xue dong 1,ZHANG Rong 2
Abstract:
Keywords:hydride vapor phase epitaxy  GaN  photoluminescence spectrum  photoluminescence excitation spectrum  yellow luminescence
本文献已被 CNKI 维普 万方数据 等数据库收录!
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