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| SiH_4分子的单脉冲激光光声光谱 | |
| 引用本文： | 张贵银,张连水,韩理,傅广生,张开锡.SiH_4分子的单脉冲激光光声光谱[J].量子电子学报,1990(1). |
| 作者姓名： | 张贵银 张连水 韩理 傅广生 张开锡 |
| 作者单位： | 河北大学物理系 (张贵银，张连水，韩理，傅广生)，河北大学物理系(张开锡) |
| 摘 要： | 用激光或放电技术在硅烷气体中产生等离子体,制取满足各种不同要求的硅薄膜,是近 几年受到广泛重视的研究课题。无疑,研究等离子体过程对弄清硅膜生长机理、表面反应过程及控制实验条件,以进一步提高膜的质量有重要意义。用光学发射光谱(OES)、光声激光偏转、激光诱导荧光等技术,我们已经研究了SiH_4激光等离子体中产生Si、SiH、SiH_2及H等自由基的微观和宏观动力学过程,但在质谱中观测到的重要的自由基种类SiH_3用上述方 |
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