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MOCVD激光诱导选择原子层外延(LALE)生长室的研究
引用本文:罗风光,曹明翠.MOCVD激光诱导选择原子层外延(LALE)生长室的研究[J].光子学报,1996,25(4):319-321.
作者姓名:罗风光  曹明翠
作者单位:华中理工大学激光技术国家重点实验室 武汉 430074
摘    要:本文对MOCVD激光诱导选择原子层外延进行了研究,设计并制作了一种激光诱导原子层外延生长室结构,该系统能实现低温MOCVD生产,可形成稳定的层流,易于生长均匀的外延层,通过激光诱导可实现选择性的原子层外延.

关 键 词:MOCVD  激光诱导  选择原子层外延
收稿时间:1995-02-16

RESEARCH OF MOCVD LASER-ASSISTED ELECT ATOMIC LAYER EPITAXY REACTOR
Luo Fengguang,Cao Mingcui,Li Hongpu,Wan Anjun,Xu Jun,Li Zaiguang.RESEARCH OF MOCVD LASER-ASSISTED ELECT ATOMIC LAYER EPITAXY REACTOR[J].Acta Photonica Sinica,1996,25(4):319-321.
Authors:Luo Fengguang  Cao Mingcui  Li Hongpu  Wan Anjun  Xu Jun  Li Zaiguang
Institution:The National Laboratory on Laser Technology, Huazhong University of Science and Technology, Wuhan 430074
Abstract:MOCVD laser-assisted elect atomic layer epitaxy is studied in this paper.A kind of construction of the reactor for laser-assissed atomic layer epitaxy is designed and fabricated.MOCVD epitaxy layer with uniform and lower temperature can be performed.Elect atomic layer epitaxy with laser-assisted can be realized.
Keywords:MOCVD  Laser-assisted  Elect atomic layer epitaxy
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