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超细氧化硅纳米线阵列的制备和发光特性
引用本文:朱彦武,陈喜红,陈耀锋,徐军,张洪洲,冯孙齐,俞大鹏,张国义.超细氧化硅纳米线阵列的制备和发光特性[J].发光学报,2004,25(2):173-177.
作者姓名:朱彦武  陈喜红  陈耀锋  徐军  张洪洲  冯孙齐  俞大鹏  张国义
作者单位:北京大学物理学院,介观物理国家重点实验室,电子显微镜实验室,北京100871;北京大学物,理学院,宽禁带半导体研究中心,北京,100871
基金项目:国家自然科学基金重点项目,国家杰出青年科学基金,教育部博士点专项基金(50025206,19834080)
摘    要:以液态金属Ca作为催化剂合成了大量的非晶SiO2纳米线阵列。这些纳米线具有高度取向性,直径分布均匀,平均约8nm,长度大于300μm。研究发现,载气的湿度对非晶SiO2纳米线阵列的生长有重大影响,提出了一种可能的生长模型,以解释这一与传统的VLS机制不同的生长过程。对样品的光致荧光(PL)谱的测量表明,非晶SiO2纳米线阵列在蓝光波段附近存在两个很强且稳定的发射峰,它们直接与样品中的缺陷和空位有关。首次发现了一个稳定的PL峰,存在于红外波段,作为光源,非晶SiO2纳米线阵列可能会在纳米光电子器件中得到应用。由于SiO2是传统的光纤材料,单根SiO2纳米线也有希望应用于近场光学扫描显微镜(SNOM)之中。

关 键 词:非晶SiO2  纳米线阵列  光致荧光
文章编号:1000-7032(2004)02-0173-05
修稿时间:2003年3月31日

Synthesis and Photoluminescence of Super Thin and Highly Oriented Silica Nanowires
ZHU Yan-wu,CHEN Xi-hong,CHEN Yao-feng,XU Jun,ZHANG Hong-zhou,FENG Sun-qi,YU Da-peng,ZHANG Guo-yi State Key Laboratory for Mesoscopic Physics, Electron Microscopy Laboratory Research Center for Wide Gap Semiconductor,School of Physics,Peking University,Beijing ,China.Synthesis and Photoluminescence of Super Thin and Highly Oriented Silica Nanowires[J].Chinese Journal of Luminescence,2004,25(2):173-177.
Authors:ZHU Yan-wu  CHEN Xi-hong  CHEN Yao-feng  XU Jun  ZHANG Hong-zhou  FENG Sun-qi  YU Da-peng  ZHANG Guo-yi State Key Laboratory for Mesoscopic Physics  Electron Microscopy Laboratory Research Center for Wide Gap Semiconductor  School of Physics  Peking University  Beijing  China
Institution:ZHU Yan-wu,CHEN Xi-hong,CHEN Yao-feng,XU Jun,ZHANG Hong-zhou,FENG Sun-qi,YU Da-peng,ZHANG Guo-yi State Key Laboratory for Mesoscopic Physics, Electron Microscopy Laboratory Research Center for Wide Gap Semiconductor,School of Physics,Peking University,Beijing 100871,China
Abstract:
Keywords:silica  nanowire array  photoluminescence
本文献已被 CNKI 维普 万方数据 等数据库收录!
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