| 等离子体喷涂中涂层形成的模拟 |
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| 引用本文： | 吴新灿,陈熙.等离子体喷涂中涂层形成的模拟[J].清华大学学报(自然科学版),2003,43(11):1503-1506. |
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| 作者姓名： | 吴新灿 陈熙 |
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| 作者单位： | 清华大学,工程力学系,北京,100084 |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金资助项目(50176024，59836220) |
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| 摘 要： | 为预测等离子体喷涂所获得涂层的孔隙率、表面粗糙度等性质及其与喷射的熔融颗粒的直径、速度、温度等参数间的关系,采用基于对涂层形成机理分析所建立的一组基本法则,并假设被喷涂的处于熔融状态的颗粒的直径、温度、速度及撞击于基板的位置均为Gauss型分布,对涂层形成进行了模拟研究。结果表明:涂层中总是存在孔隙;熔融颗粒的平均直径愈大,则所得涂层孔隙率愈小;涂层愈厚,其表面也愈粗糙;随着熔融颗粒平均速度或平均温度的升高,涂层孔隙率与表面粗糙度均减小,这与实验观察一致。
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| 关 键 词： | 等离子体喷涂 涂层形成 涂层孔隙率 表面粗糙度 模拟 |
| 文章编号： | 1000-0054(2003)11-1503-04 |
| 修稿时间： | 2002年12月31 |
Simulation of coating formation during plasma spraying |
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| WU Xincan,CHEN Xi.Simulation of coating formation during plasma spraying[J].Journal of Tsinghua University(Science and Technology),2003,43(11):1503-1506. |
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| Authors: | WU Xincan CHEN Xi |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | plasma spraying coating formation coating porosity surface roughness simulation |
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