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| 晶体倒空间中的迹线分析 | |
| 作者姓名： | 李玉清 李蓬 |
| 作者单位： | [1]大冶特殊钢股份有限公司技术中心 [2]北京航空航天大学 |
| 摘 要： | 提出适用于各种晶系晶体倒空间中迹线的分析原理，并由此导出的计算公式，从电子衍射花样上的漫散衍射条纹或（和）伴点，可简便确定晶体中所存在的面缺陷。应用此迹线分析原理，分析讨论了奥氏体｛１１１｝面上可能形成ＶＣ膜，标注和确定了Ｌａｖｅｓ相中的层错面和（Ｆｅ，Ｃｒ）７Ｃ３中的缺陷面。 |
| 关 键 词： | 晶体倒空间 迹线分析 面缺陷 电子显微术 |
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