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电子回旋共振微波等离子体离子束刻蚀技术
引用本文:张继成,吴卫东.电子回旋共振微波等离子体离子束刻蚀技术[J].工程物理研究院科技年报,2003(1):86-87.
作者姓名:张继成  吴卫东
摘    要:电子回旋共振微波等离子体技术在薄膜制备技术、材料的表面处理、离子源和等离子体刻蚀等方面得到了广泛的应用,取得了长足的进展。这些特点在ICF实验制靶过程中有重要应用,如调制靶等,而且加工精度高,能满足ICF制靶的要求。基于在未来的ICF实验中对各种有机膜制备、各种调制靶的制备需求,开展了电子回旋共振微波等离子体技术在薄膜制备和等离子体刻蚀方面的预研工作。

关 键 词:电子回旋共振  微波等离子体  离子束刻蚀    制备调制
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