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| 扫描速率对硅表面分子沉积膜纳米摩擦特性的影响 | |
| 引用本文： | 高芒来,聂时春,张嗣伟.扫描速率对硅表面分子沉积膜纳米摩擦特性的影响[J].化学研究与应用,2003,15(5):734-736. |
| 作者姓名： | 高芒来 聂时春 张嗣伟 |
| 作者单位： | 1. 石油大学化工学院,北京,102249 2. 中国石化长城润滑油集团有限公司,北京,100085 3. 石油大学机电学院,北京,102249 |
| 基金项目： | 国家自然科学基金资助项目(50175076),重质油加工国家重点实验室开放课题(2002-05) |
| 摘 要： | 本研究小组曾简要报道过扫描速率对Au衬底表面分子沉积膜(MD)的纳米摩擦特性的影响1],本文利用原子力显微镜(AFM)研究了硅表面、羟基化硅表面、氨丙基硅烷(aminopropylsilanized简称APS)化硅表面及硅衬底上磺化酞菁铜(CuT sPc)单层MD膜表面的摩擦力随针尖扫描速率变化的规律。1 实验方法1 1 仪器与试剂TMX2000型原子力显微镜(TopoMetrix公司)。甲苯、二甲苯、丙酮、无水乙醇、氯仿、浓硫酸、过氧化氢、浓盐酸(以上均为分析纯),3 氨丙基 三乙氧基硅烷(KH 550,ACROS产品),磺化酞菁铜(ALDRICH产品),去离子水(电阻率大于10… |
| 关 键 词： | 扫描速率 硅表面 分子沉积膜 纳米摩擦特性 磺化酞菁铜 |
| 文章编号： | 1004-1656(2003)05-0734-03 |
| 修稿时间： | 2003年1月6日 |
Effect of scan rate on nonafriction properties of monolayer molecular deposition film on silicon |
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| Abstract: | The change of frictional force was studied with the increase of scan rate on different Si surface by atomic force microscopy.The results showed that frictional force had different effect with the increasement of scan rate on different surface.To Si surface and hydroxylate silicon surface,it became bigger.It first decreased and then increased on aminopropylsilanixed(APS)silicon surface,taking on conic section relation.It declined on monolayer copper phthalocyaninetetrasulfonic,tetrasodium salt(CuTsPc)molecular deposition film.In the process of scan,frictional heat greatly affected friction and may even change the shape of the film so that plastic flow arouse. |
| Keywords: | scan rate silicon surface molecular deposition films nonafriction properties copper phthalocyanine-tetrasulfonic tetrasodium salt(CuTsPc) |
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