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| X光激光薄膜锗靶的制备 | |
| 引用本文： | 许华,崔保顺.X光激光薄膜锗靶的制备[J].强激光与粒子束,1996,8(1):78-82. |
| 作者姓名： | 许华 崔保顺 |
| 作者单位： | 西南核物理与化学研究所，成都525信箱 610003 |
| 摘 要： | 介绍了X光激光薄膜锗靶的制备工艺，在厚度为90nm的formvar膜上，采用磁控溅射技术沉积30~60nm厚的锗膜。对锗膜的应力进行了初步的测试与分析，制得的薄膜经干涉仪测量符合要求。 |
| 关 键 词： | 射频磁控溅射 锗膜 formvar膜 干涉条纹位移法 应力 |
| 收稿时间： | 1900-01-01; |
THE FABRICATION OF X-RAY LASER GERMANIUM FILM TARGETS |
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| Xu Hua, Cul Baoshun, Zhao Chaokang, Wang Mingda,Zhuo Zhiyun, Chang Fuhua, Cheng Zhimei, and Lou Qiaoya.THE FABRICATION OF X-RAY LASER GERMANIUM FILM TARGETS[J].High Power Laser and Particle Beams,1996,8(1):78-82. | |
| Authors: | Xu Hua Cul Baoshun Zhao Chaokang Wang Mingda Zhuo Zhiyun Chang Fuhua Cheng Zhimei and Lou Qiaoya |
| Abstract: | |
| Keywords: | magnetron sputtering germanium film formvar film intefferometry stress |
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