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杂志ISSN号
沉积在α-Al_2O_3分形基底上Ag薄膜的特性
作者姓名:
许宇庆
叶高翔
王劲松
陶向明
张其瑞
作者单位:
浙江大学物理系,杭州大学物理系
摘 要:
报道了采用磁控溅射法在α-Al_2O_3分形基底上沉积Ag薄膜表面的形貌、结晶状态以及其V-I特性.结果表明:分形的Al_2O_3基底导致Ag薄膜具有起伏不平的结构、较差的结晶状态并且存在大量的孔洞,它们同样受基底温度和薄膜厚度的影响.在一定的厚度范围内,Ag薄膜呈现反常的非线性I(V)特性,其行为也受薄膜厚度、基底温度和测试环境的强烈影响.
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