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| 用X射线光电子能谱对热处理的四苯基钴卟啉修饰电极的表面表征 | |
| 作者姓名： | 胡刚 许莉娟 董绍俊 |
| 作者单位： | 中国科学院长春应用化学研究所电分析化学开放研究实验室(胡刚，许莉娟)，中国科学院长春应用化学研究所电分析化学开放研究实验室(董绍俊) |
| 摘 要： | 本文用XPS、DTA和TG分析了四苯基钴卟啉化学修饰电极的热分解行为,它不同于四苯基铁卟啉.由XPS谱图揭示了四苯基钴卟啉与玻璃碳电极之间的相互作用,进而阐述了经热处理的四苯基钴卟啉化学修饰电极的表面结构与电催化稳定性的关系.从Co2p_3/2和2p_(1/2)能级的自旋分裂间距及其Shake-up伴峰,了解经热处理后的四苯基钴卟啉修饰电极中钴自旋态变化,并且从Co的L_3VV俄歇跃迁计算出Co的双电离能,其双电离能与电催化活性有一定关系。 |
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