| MEMS器件中电极制作工艺的研究 |
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| 引用本文： | 张清涛,李艳秋.MEMS器件中电极制作工艺的研究[J].微细加工技术,2005(3):53-56. |
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| 作者姓名： | 张清涛 李艳秋 |
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| 作者单位： | 中国科学院电工研究所,微纳技术及应用研究组,北京,100080 |
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| 基金项目： | 中国科学院＂引进国外杰出人才基金＂2001年资助项目（20011215）;国家863MEMS重大专项基金资助项目（2003AA404150） |
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| 摘 要： | 研究了常用的国产BP212正型紫外光刻胶和光学曝光机在利用剥离工艺制备电极中的适用性.结果表明,采用国产的光刻胶和曝光设备完全可以得到实用性的带有凹面的光刻胶剖面和线条均匀性达到微米级的金属线条,简化了lift-off工艺,降低了成本,改进了金属电极的制备方法.
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| 关 键 词： | 光刻胶 剥离工艺 电极 |
| 文章编号： | 1003-8213（2005）03-0053-04 |
| 收稿时间： | 2005-03-01 |
| 修稿时间： | 2005-05-10 |
Research on Fabrication Technology of Electrode in MEMS Device |
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| ZHANG Qing-tao,LI Yan-qiu.Research on Fabrication Technology of Electrode in MEMS Device[J].Microfabrication Technology,2005(3):53-56. |
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| Authors: | ZHANG Qing-tao LI Yan-qiu |
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| Institution: | Micro Nano Fabrication Laboratory, Institute of Electrical Engineering, Chinese Academy of Sciences, Beijing 100080, China |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | photoresist lift-off electrode |
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