| 高分辨率Ⅰ-line正性光刻胶的制备及应用性能研究 |
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| 引用本文： | 曹昕.高分辨率Ⅰ-line正性光刻胶的制备及应用性能研究[J].广州化学,2015,40(2). |
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| 作者姓名： | 曹昕 |
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| 作者单位： | 中科院广州化学有限公司,广东广州,510650 |
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| 摘 要： | 利用两种不同重均分子量的改性酚醛树脂(PF)与一种三个酯化度的四羟基二苯甲酮-重氮萘醌磺酸酯光敏剂(PAC)按比例配制,加入适量助剂优化感光性能,制备出一种应用于电子触屏加工领域的Ⅰ-line正性光刻胶,其具有刻蚀精度高、工艺性能优良、单位成本较低等优势特点.
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| 关 键 词： | 酚醛树脂 重氮萘醌磺酸酯 Ⅰ-line 光刻胶 |
Preparation and Application of the High ResolutionⅠ-line Positive Photoresist |
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| CAO Xin.Preparation and Application of the High ResolutionⅠ-line Positive Photoresist[J].Guangzhou Chemistry,2015,40(2). |
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| Authors: | CAO Xin |
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