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9—46keV电子引直怕Ni的K壳层电离截面
作者姓名:
何福庆 龙先灌
摘 要:
用Si(Li)探测器测量薄Ni靶在9-46keV的电子轰击下产生的K壳层特征X射线,以确定其K壳层电子的电离截面。测量结果与前人的实验和理论计算以及经验公式的计算结果作了比较。
关 键 词:
镍 电子碰撞 K壳层 电离截面
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