| Fe-N软磁薄膜的结构和性能 |
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| 引用本文： | 周剑平,李丹,顾有松,赵春生,常香荣,李福,乔利杰,田中卓,方光旦,宋庆山.Fe-N软磁薄膜的结构和性能[J].中国科学A辑,2002,32(2):132-140. |
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| 作者姓名： | 周剑平 李丹 顾有松 赵春生 常香荣 李福 乔利杰 田中卓 方光旦 宋庆山 |
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| 作者单位： | (1)北京科技大学材料物理系 ,北京 100083 ,中国;(2)中国科学院计算技术研究所 ,北京 100080 ,中国 |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金资助项目(批准号: 19392300, 19890310) |
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| 摘 要： | 用RF溅射制备厚度为200 nm的Fe-N薄膜在250℃, 12000 A/m磁场下真空热处理后，当N含量在5%～7%(原子百分数)范围内形成α′+α″相时，4πMS可达2.4 T, Hc＜80 A/m, 2～10 MHz下高频相对导磁率μr=1500，可满足针对10 Gb/in2存储密度的GMR/感应式复合读写磁头中写入磁头的需要. Fe-N系薄膜中α′相的形成机理和点阵常数与块状试样按Bain机理形成的α′相有明显的差别，得到了薄膜中α′相的a,c与Cα′N之间的线性关系式.
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| 关 键 词： | 磁性薄膜 结构 性能 Fe-N系 |
| 收稿时间： | 2001-06-28 |
| 修稿时间： | 2001年6月28日 |
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