| 高温氨刻蚀对硅基纳米铁薄膜显微形态的影响 |
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| 引用本文： | 赵勇,程国安,郑瑞廷,刘华平,梁昌林.高温氨刻蚀对硅基纳米铁薄膜显微形态的影响[J].人工晶体学报,2006,35(3):451-455,460. |
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| 作者姓名： | 赵勇 程国安 郑瑞廷 刘华平 梁昌林 |
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| 作者单位： | 1. 北京师范大学射线束技术与材料改性教育部重点实验室,北京师范大学材料科学与工程系,北京100875;南昌大学物理系,南昌330047
2. 北京师范大学射线束技术与材料改性教育部重点实验室,北京师范大学材料科学与工程系,北京100875 |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金资助项目(No.1057011) |
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| 摘 要： | 本文研究了750℃高温氨刻蚀对硅基铁纳米薄膜显微形态变化的影响。找到了纳米铁颗粒平均直径和平均分布密度随刻蚀时间、薄膜厚度等参数变化的规律,并对氨在其变化过程中的作用机制进行了初步探讨。研究发现:5~10nm的薄膜原始厚度和8~12m in的刻蚀时间是硅基铁纳米薄膜催化高定向碳纳米管阵列化学气相沉积生长的较理想条件。
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| 关 键 词： | 铁纳米薄膜 氨刻蚀 显微形态 |
| 文章编号： | 1000-985X（2006）03-0451-05 |
| 收稿时间： | 2005-10-23 |
| 修稿时间： | 2005-10-23 |
Influence of Thermal Ammonia Etching on the Nano-structure of Iron Films on Si Substrate |
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| ZHAO Yong,CHENG Guo-an,ZHENG Rui-ting,LIU Hua-ping,LIANG Chang-lin.Influence of Thermal Ammonia Etching on the Nano-structure of Iron Films on Si Substrate[J].Journal of Synthetic Crystals,2006,35(3):451-455,460. |
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| Authors: | ZHAO Yong CHENG Guo-an ZHENG Rui-ting LIU Hua-ping LIANG Chang-lin |
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| Institution: | 1. Key Laboratory of Radiation Beam Technology and Materials Modification of Ministry of Education, Department of Materials Science and Engineering, Beijing Normal University, Beijing 100875, China; 2. Department of Physics, Nanchang University, Nanchang 330047, China |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | iron nano-film ammonia etching microstructure |
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