ULSI掩模缺陷检查技术研究 |
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引用本文: | 于向东,胡道媛.ULSI掩模缺陷检查技术研究[J].微电子技术,1994,22(1):26-35. |
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作者姓名: | 于向东 胡道媛 |
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作者单位: | 中国华晶电子集团公司掩模工厂!无锡,214061 |
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摘 要: | 本文以KLA-221型自动掩模缺陷检查系统硬件资源为研究工具。详尽地描述了ULSI掩模缺陷检查的实际意义、缺陷检查的原理、检查模式。提出了如何保证缺陷检查的捕俘率以及降低伪缺陷的方法。对单层掩模版的图形品成率和整套掩模版图形成品率的正确预测做了分析研究,并可由预测的结果揭示出IC芯片生产中的成品率应达数。还讨论了掩模秧陷的分类和产生的工艺因素。
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关 键 词: | ULSI 掩模 缺陷检查 集成电路 |
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