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埋置型多层布线技术中的光刻工艺研究
引用本文:
陈炜.埋置型多层布线技术中的光刻工艺研究[J].混合微电子技术,2001,12(4):23-27.
作者姓名:
陈炜
摘 要:
埋置型薄膜多层布线与其它多层布线技术相比有更高的集成度。本文讨论了埋置型薄膜多层布线基板的制备在光刻工艺中的技术问题及解决措施。并成功地在埋置型双层混合电路中进行了应用。
关 键 词:
埋置型
多层布线技术
光刻工艺
微电子
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