| RF磁控溅射微波介质陶瓷薄膜的影响因素及其应用 |
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| 引用本文： | 崔传文,石锋,李玉国,张月甫,张敬尧. RF磁控溅射微波介质陶瓷薄膜的影响因素及其应用[J]. 科学技术与工程, 2008, 8(7): 1741-1747 |
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| 作者姓名： | 崔传文 石锋 李玉国 张月甫 张敬尧 |
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| 作者单位： | 山东师范大学,物理与电子学院,济南,250014;山东大学晶体材料国家重点实验室,济南,250100;山东师范大学,物理与电子学院,济南,250014 |
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| 摘 要： | RF磁控溅射是目前应用最广泛的一种溅射沉积方法.由于陶瓷溅射的现象相当复杂,目前尚无完整的溅射理论可以用来分析溅射现象,所以通常通过实验来确定溅射过程中的影响因素.综述了RF磁控溅射陶瓷薄膜过程中的影响因素,阐述了微波介质陶瓷薄膜的应用前景,并指出了今后的发展方向.
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| 关 键 词： | RF磁控溅射 微波介质陶瓷薄膜 影响因素 |
| 修稿时间： | 2007-12-03 |
Influence Factors and Application of Microwave Dielectric Ceramic Thin Films by RF Magnetron Sputtering |
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| CUI Chuan-wen,SHI Feng,LI Yu-guo,ZHANG Yue-pu,ZHANG Jing-yao. Influence Factors and Application of Microwave Dielectric Ceramic Thin Films by RF Magnetron Sputtering[J]. Science Technology and Engineering, 2008, 8(7): 1741-1747 |
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| Authors: | CUI Chuan-wen SHI Feng LI Yu-guo ZHANG Yue-pu ZHANG Jing-yao |
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