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| RF—PECVD制备类金刚石碳膜的沉积机理 | |
| 引用本文： | 程宇航,吴一平.RF—PECVD制备类金刚石碳膜的沉积机理[J].真空电子技术,1997(4):17-22. |
| 作者姓名： | 程宇航 吴一平 |
| 摘 要： | 本文综合评述了用射频率等体化学气相沉积法制备类金刚石碳膜过程中的等离子体化学反应和等离子体与材料表面反应机理的研究概况。 |
| 关 键 词： | RF－PECVD 类金刚石碳膜 等离子体反应 |
| 本文献已被 维普 等数据库收录！ | |
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