| 氮分压对Ta-Ru-N薄膜微观组织和性能的影响 |
| |
| 引用本文： | 郭帅东,王广欣,李浩翔,孙浩亮,逯峙,唐坤.氮分压对Ta-Ru-N薄膜微观组织和性能的影响[J].河南科技大学学报(自然科学版),2020,41(4). |
| |
| 作者姓名： | 郭帅东 王广欣 李浩翔 孙浩亮 逯峙 唐坤 |
| |
| 作者单位： | 河南科技大学 材料科学与工程学院,河南洛阳 471023;河南科技大学 河南省高纯材料及溅射靶材工程研究中心,河南洛阳 471023;河南科技大学 洛阳市高纯材料及溅射靶材重点实验室,河南洛阳 471023;广西大学动物科学技术学院,广西南宁 530004 |
| |
| 基金项目： | 国家自然科学基金;河南省高等学校重点科研项目;河南省高等学校学科创新引智基地基金项目 |
| |
| 摘 要： | 采用反应磁控溅射技术,在单晶Si(100)面基底上制备了4个氮分压条件下Ta-Ru-N扩散阻挡层薄膜。通过X射线衍射(XRD)、场发射扫描电子显微镜(FESEM)、能谱(EDS)、透射电子显微镜(TEM)、原子力显微镜(AFM)以及四探针电阻测试仪(FPP),对所制备薄膜的相结构、表面形貌和电学性能进行了表征,研究了氮分压对薄膜微观组织和性能的影响。研究结果表明:制备的Ta-Ru-N薄膜为非晶态,适量氮气的加入能够提高薄膜表面的平整度,薄膜方阻随着氮分压的增加而逐渐增加。
|
| 关 键 词： | 磁控溅射 扩散阻挡层 Ta-Ru-N 方块电阻 |
| 本文献已被 CNKI 万方数据 等数据库收录！ |
|
