| 同一芯片上制作变周期布拉格光栅的改进全息曝光法 |
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| 引用本文： | 谢红云,周帆,王宝军,杨华,朱洪亮,赵玲娟,王圩.同一芯片上制作变周期布拉格光栅的改进全息曝光法[J].半导体学报,2005,26(7):1287-1290. |
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| 作者姓名： | 谢红云 周帆 王宝军 杨华 朱洪亮 赵玲娟 王圩 |
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| 作者单位： | 中国科学院半导体研究所 北京100083
(谢红云，周帆，王宝军，杨华，朱洪亮，赵玲娟)，中国科学院半导体研究所 北京100083(王圩) |
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| 基金项目： | 国家重点基础研究发展计划(973计划)
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国家自然科学基金
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国家高技术研究发展计划(863计划) |
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| 摘 要： | 提出了一种采用传统光学全息曝光技术，在同一芯片上制作不同周期的布拉格光栅的新方法．在这个简单实用的方法中，聚酰亚胺用来保护第一次做好的某一周期的光栅．这种新方法制作工艺简单，成本低，且与传统的半导体工艺兼容．
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| 关 键 词： | 布拉格光栅 DFB激光器 多波长：疏波分复用 |
| 文章编号： | 0253-4177（2005）07-1287-04 |
| 收稿时间： | 2005-01-14 |
| 修稿时间： | 2005-03-01 |
Modified Holographic Exposure to Fabricate Varied Bragg Grating in an Identical Chip |
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| Xie GongYun;Zhou Fan;Wang BaoJun;Yang Hua;Zhu HongLiang;Zhao LingJuan;Wang Wei.Modified Holographic Exposure to Fabricate Varied Bragg Grating in an Identical Chip[J].Chinese Journal of Semiconductors,2005,26(7):1287-1290. |
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| Authors: | Xie GongYun;Zhou Fan;Wang BaoJun;Yang Hua;Zhu HongLiang;Zhao LingJuan;Wang Wei |
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| Abstract: | A new fabricating method is demonstrated to realize two different Bragg gratings in an identical chip using traditional holographic exposure.Polyimide is used to protect one Bragg grating during the first period.The technical process of this method is as simple as that of standard holographic exposure. |
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| Keywords: | holographic grating DFB laser multi-wavelength CWDM |
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