| 纳米SiO2／CeO2复合磨粒的制备及其抛光特性研究 |
| |
| 引用本文： | 肖保其,雷红. 纳米SiO2／CeO2复合磨粒的制备及其抛光特性研究[J]. 摩擦学学报, 2008, 28(2) |
| |
| 作者姓名： | 肖保其 雷红 |
| |
| 作者单位： | 1. 上海大学,纳米中心,上海,200444;上海大学,环境与化学工程学院,上海,200444
2. 上海大学,纳米中心,上海,200444 |
| |
| 基金项目： | 国家自然科学基金，国家重点基础研究发展计划(973计划)，上海市自然科学基金，上海市教委第五期重点学科资助项目 |
| |
| 摘 要： | 以尿素[CO(NH2)2]、(NH4)2Ce(NO3)6和SiO2为原料,采用均相沉淀法制备1种新型纳米SiO2/CeO2复合磨粒,通过X射线衍射仪、X射线光电子能谱仪、飞行时间二次离子质谱仪和扫描电子显微镜等分析手段对其结构进行表征,并将SiO2/CeO2复合磨粒配置成抛光液在数字光盘玻璃基片上进行化学机械抛光试验.结果表明:所制备的SiO2/CeO2复合磨粒的平均晶粒度为19.64 nm,粒度分布均匀;经过1 h抛光后,玻璃基片的平均表面粗糙度(Ra)由1.644 nm降至0.971 nm;抛光后玻璃基片表面变得光滑、平坦,表面微观起伏较小.
|
| 关 键 词： | 化学机械抛光(CMP) 玻璃基片 复合磨粒 |
Preparation of Nano SiO2/CeO2 Composite Particles and Their Polishing Performance |
| |
| XIAO Bao-qi,LEI Hong. Preparation of Nano SiO2/CeO2 Composite Particles and Their Polishing Performance[J]. Tribology, 2008, 28(2) |
| |
| Authors: | XIAO Bao-qi LEI Hong |
| |
| Abstract: | |
| |
| Keywords: | |
| 本文献已被 维普 万方数据 等数据库收录！ |
| 点击此处可从《摩擦学学报》浏览原始摘要信息 |
|
点击此处可从《摩擦学学报》下载全文 |
|
