| 航空太阳能电池用超薄锗单晶的精密抛光 |
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| 引用本文： | 杨昊鹍,刘玉岭,牛新环,孙 鸣,李 强.航空太阳能电池用超薄锗单晶的精密抛光[J].微电子学,2014(4):537-541. |
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| 作者姓名： | 杨昊鹍 刘玉岭 牛新环 孙 鸣 李 强 |
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| 作者单位： | 河北工业大学微电子研究所; |
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| 基金项目： | 国家中长期科技发展规划02科技重大专项(2009ZX02308) |
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| 摘 要： | 主要对影响锗单晶抛光后表面微粗糙度的关键因素—抛光液组分的作用进行分析。采用变量控制的实验方法,从活性剂、有机胺碱、氧化剂、硅溶胶磨料和螯合剂五个因素出发进行实验。针对粗糙度影响因素进行分析与优化,同时对抛光速率进行了分析,研究得出,抛光液组分中氧化剂浓度对CMP过程中锗衬底片表面微粗糙度及去除速率的影响最为显著。优化抛光液组分配比,在抛光速率基本满足工业要求(1.5μm/min)下,经过CMP后锗衬底表面微粗糙度可有效降到1.81 nm(10μm×10μm)。在最佳配比下,采用小粒径、低分散度(99%82.2 nm)的硅溶胶磨料配制抛光液,其抛光效果明显优于采用大粒径、高分散度的硅溶胶磨料配制的抛光液。
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| 关 键 词： | 锗衬底 航空电子 抛光液 氧化剂 粗糙度 |
Fine Polishing of Ultra-Thin Single-Crystal Ge for Aerospace
Application of Solar Cell |
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| YANG Haokun,LIU Yuling,NIU Xinhuan,SUN Ming,LI Qiang.Fine Polishing of Ultra-Thin Single-Crystal Ge for Aerospace
Application of Solar Cell[J].Microelectronics,2014(4):537-541. |
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| Authors: | YANG Haokun LIU Yuling NIU Xinhuan SUN Ming LI Qiang |
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| Institution: | Institute of Microelectronics, Hebei University of Technology, Tianjin 300130, P. R. China |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | Germanium substrate Aviation electronics Slurry Oxidant Surface roughness |
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