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| 基于混合梯度下降的高性能光刻机离轴照明衍射光学元件设计 | |
| 引用本文： | 宋强,朱菁,王健,张方,吕向博,杨宝喜,黄惠杰. 基于混合梯度下降的高性能光刻机离轴照明衍射光学元件设计[J]. 光学学报, 2015, 35(1): 122005 |
| 作者姓名： | 宋强 朱菁 王健 张方 吕向博 杨宝喜 黄惠杰 |
| 作者单位： | 宋强:中国科学院上海光学精密机械研究所, 上海 201800中国科学院大学, 北京 100049 朱菁:中国科学院上海光学精密机械研究所, 上海 201800中国科学院大学, 北京 100049 王健:中国科学院上海光学精密机械研究所, 上海 201800中国科学院大学, 北京 100049 张方:中国科学院上海光学精密机械研究所, 上海 201800中国科学院大学, 北京 100049 吕向博:中国科学院上海光学精密机械研究所, 上海 201800中国科学院大学, 北京 100049 杨宝喜:中国科学院上海光学精密机械研究所, 上海 201800中国科学院大学, 北京 100049 黄惠杰:中国科学院上海光学精密机械研究所, 上海 201800中国科学院大学, 北京 100049 |
| 基金项目： | 国家科技重大专项（2011ZX020402）、国家国际科技合作专项（2011DFR10010）、上海市青年科技英才扬帆计划（14YF1406300） |
| 摘 要： | 深紫外(DUV)光刻机照明系统普遍采用衍射光学元件(DOE)实现光瞳整形。根据光刻机的指标要求,衍射光学元件应具有高衍射效率和高均匀性的特点。传统的相位恢复算法如Gerchberg-Saxton(GS)及其改进算法,一般只能通过降低均匀性来提高衍射效率,无法得到最优的解。而全局优化算法如模拟退火法、遗传基因法等需要大量的计算时间,难以实现像素数目多的深紫外DOE的设计。为了克服上述困难,提出了一种基于GS的混合梯度下降算法,在迭代过程中对每次迭代的振幅进行加权反馈修正,在加快收敛速度的同时,减少误差,同时实现高效率和高信噪比。利用该算法对光刻需要的传统、四极照明光瞳、定制照明光瞳的DOE进行了设计,结果表明,实现传统和四极照明光瞳的16阶量化相位DOE的衍射效率均超过92%,而非均匀性分别为3.98%和2.3%。实现定制照明光瞳的DOE的衍射效率为91%,图形恢复误差为5.8%。该方法为获得高性能深紫外DOE提供一条可行的途径。 |
| 关 键 词： | 光学设计 光学光刻 光瞳整形 衍射光学元件设计 部分相干光 |
| 收稿时间： | 2014-07-01 |
A Mixed Gradient Algorithm for High Performance DOE Design in Off-Axis Lithography Illumination System |
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| Abstract: | |
| Keywords: | optical design optical lithography pupil shaping diffractive optical element design partial coherence |
| 本文献已被 CNKI 等数据库收录！ | |