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不同浓度KOH电解质中蒸发氧化镍膜循环伏安特性的研究
引用本文:偰正才,吴正华.不同浓度KOH电解质中蒸发氧化镍膜循环伏安特性的研究[J].光电子技术,1990(2).
作者姓名:偰正才  吴正华
摘    要:本文对蒸发氧化镍膜在不同浓度 KOH 电解质中,氧化还原反应过程中的循环伏安特性进行了研究。其结果表明反应循环寿命过程中氧化镍膜存在结晶过程,结晶速度随着 KOH 电解质浓度的增大而加快。最后对产生这种结晶的原因进行了分析和讨论。

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