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分类号
杂志ISSN号
化学氧化法合成聚吡咯薄膜
作者姓名:
沙兆林 戴青云
作者单位:
南通工学院化学工程系
摘 要:
通过界面氧化合成了聚吡咯薄膜。对使用的溶剂和氧化剂进行了讨论,并在不同的温度和浓度下观察聚吡咯薄膜生成的速度及生成膜的稳定性能。通过扫描电镜,红外光谱,电导测定,元素分析等实验,研究了聚合膜的组成和结构。
关 键 词:
化学氧化法 聚吡咯膜 合成 导电高分子
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