| InN材料及其应用 |
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| 引用本文： | 谢自力,张荣,毕朝霞,刘斌,修向前,顾书林,江若琏,韩平,朱顺明,沈波,施毅,郑有炓.InN材料及其应用[J].微纳电子技术,2004,41(12):26-32. |
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| 作者姓名： | 谢自力 张荣 毕朝霞 刘斌 修向前 顾书林 江若琏 韩平 朱顺明 沈波 施毅 郑有炓 |
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| 作者单位： | 南京大学物理系,江苏省光电信息功能材料高技术研究重点实验室,江苏,南京,210093 |
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| 基金项目： | 国家重点基础研究发展规划资助项目(G2000068305)，国家高技术研究发展规划项目(2001AA3111102003AA311060)，国家自然科学基金项目(699760146980600669987001)，国家杰出青年基金项目(60025411)，江苏省自然科学基金重点项目资助(BK2003203) |
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| 摘 要： | 由于具有独特的本征特性,InN材料已经成为最近两年国际上最热门的研究材料之一。本文介绍了InN材料的基本性质,探讨了材料的生长技术和应用方向。最后给出了InN材料今后发展急需解决的问题以及未来的发展应用前景。
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| 关 键 词： | InN 带隙 半导体材料 晶格常数 晶格匹配 |
| 文章编号： | 1671-4776(2004)12-0026-07 |
| 修稿时间： | 2004年5月26日 |
Fabrication and application of InN films |
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| XIE Zi-li,ZHANG Rong,BI Zhao-xia,LIU Bin,XIU Xiang-qian,GU Shu-lin,JIANG Ruo-lian,HAN Ping,ZHU Shun-ming,SHEN Bo,SHI Yi,ZHENG You-dou.Fabrication and application of InN films[J].Micronanoelectronic Technology,2004,41(12):26-32. |
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| Authors: | XIE Zi-li ZHANG Rong BI Zhao-xia LIU Bin XIU Xiang-qian GU Shu-lin JIANG Ruo-lian HAN Ping ZHU Shun-ming SHEN Bo SHI Yi ZHENG You-dou |
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| Abstract: | Due to the great application potential and the secrets of the character s having been revealed,the InN material is one of the most attractive materials in recent two years. In this paper,the basic properties of InN were introduced. The growth techniques and applications of InN material were discussed. Finally,s ome questions and the prospect of the InN material in the future were given. |
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| Keywords: | InN bandgap semiconductor material lattice parameter lattice mismatch |
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