氮化镓电致发光的高效注入机理 |
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引用本文: | G.Jacob,D.Bois,为中.氮化镓电致发光的高效注入机理[J].发光学报,1978(1). |
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作者姓名: | G.Jacob D.Bois 为中 |
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作者单位: | 法国应用物理与电子学实验室,法国应用物理与电子学实验室 |
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摘 要: | 作者制成一种GaN电致发光器件,外量子效率接近1%(黄)和0.3%(绿)。器件的发光区由两个掺锌层组成,n型层和半绝缘层(1000),再加二个金属的接触电极。产生电致发光所加的电压典型值为5—10伏,但也曾低到2.5—4伏(金属为正)。作者提出一个模型解释这种结构的注入机理;涉及杂质带的电导和从n侧向i侧的电子注入。观察到的I(V)特性符合夫仑克耳规律。
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