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| 基于半隐式离散化的局部水平集掩模优化 | |
| 作者姓名： | 沈逸江 王小朋 周延周 张振荣 |
| 作者单位： | 广东工业大学自动化学院,广东广州510006;广西大学计算机电子信息学院,广西南宁530004 |
| 基金项目： | 国家自然科学基金;广东省自然科学基金;广东省自然科学基金;广西自然科学基金;广西自然科学基金 |
| 摘 要： | 提出一种面向光刻掩模优化框架基于半隐式离散化的数值技术方法,对框架中稳定时间相关模型中的扩散项、非扩散项分别进行隐式、显式的离散化,从而克服基于梯度下降的显式离散化方法中迭代步长受到抑制的稳定性约束要求.此外,选择对掩模图形的边缘与高频成分相对应的受监控像素点进行局部优化,而不是优化所有的掩模像素点,来降低计算复杂度.... |
| 关 键 词： | 成像系统 光刻 掩模优化 半隐式 水平集 光学临近校正 |
| 本文献已被 CNKI 万方数据 等数据库收录！ | |