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| 一种菁染料—聚合物薄膜的光存存储性能 | |
| 作者姓名： | 唐福龙 田禾 |
| 作者单位： | [1]中国科学院上海光学精密机械研究所 [2]华东理工大学精细化工研究所 |
| 摘 要： | 用旋涂法制备了一种菁染料－聚合物薄膜，并研究了该染料－聚合物薄膜的光谱性质和光存储性能，该染料薄膜在６６０～８３０ｎｍ波段有较强的吸收和２０％以上的反射率，在最佳实验条件下，获得了５８ｄＢ的信噪比，信噪比（ＣＮＲ）载波信号强度（Ｃ）和薄膜反射率变化（△Ｒ）的对数（ｌｇ△Ｒ）在正比。 |
| 关 键 词： | 菁染料 旋涂法 光存储 聚合物 薄膜 |
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