CeO2和Pd在Ni/γ-Al2O3催化剂中的助剂作用 |
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作者姓名: | 杨咏来 徐恒泳 李文钊 |
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作者单位: | Dalian Institute of Chemical Physics, Chinese Academy of Sciences, Dalian 116023 |
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基金项目: | 国家重点基础研究发展规划(G1999022401)资助项目 |
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摘 要: | 采用脉冲微反技术研究了添加n型半导体氧化物CeO2及贵金属Pd对Ni/γ Al2O3催化剂上CH4积炭/CO2消炭反应性能的影响,并运用BET、TPR、CO2 TPSR及氢吸附等技术对催化剂进行了表征.结果表明, n型半导体氧化物CeO2的添加可以降低Ni/γ Al2O3催化剂上CH4裂解积炭活性,提高CO2消炭活性,添加少量贵金属Pd可以进一步改变载体Al2O3、助剂CeO2和活性组分Ni之间的相互作用,从而改善Ni/γ Al2O3催化剂的抗积炭性能.通过Ni Ce Pd/γ Al2O3催化剂上CH4积炭/CO2消炭模型对上述作用机制作出了新的解释.
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关 键 词: | Ni/γ-Al2O3催化剂 CeO2 贵金属Pd CH4积炭 CO2消炭 |
收稿时间: | 2001-09-16 |
修稿时间: | 2001-09-16 |
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