室温射频磁控溅射制备纳米晶ZnSX薄膜及其性能研究 |
| |
作者单位: | 浮法玻璃新技术国家重点实验室 薄膜技术研究所,安徽 蚌埠 233000;中建材蚌埠玻璃工业设计研究院有限公司,安徽 蚌埠 233018 |
| |
基金项目: | 国家科技重大专项;安徽省重点研究与开发计划项目;安徽省重点研究与开发计划项目 |
| |
摘 要: | 为获得性能优异的透明介质薄膜,采用射频磁控溅射技术,以ZnS陶瓷靶为靶材,在玻璃衬底上室温沉积纳米晶富锌ZnS薄膜,通过X射线衍射仪、场发射扫描电子显微镜、拉曼光谱仪、分光光度计、光谱椭偏仪重点研究了不同射频功率对制备的纳米晶ZnS_X薄膜的晶相结构、表面形貌及光学性能的影响。结果表明:射频功率对ZnS_X薄膜晶相形成和结晶度具有重要影响;随着溅射功率的增加,ZnS_X薄膜中Zn和S元素的比例、特征拉曼峰的强度以及折射率的值都先增大后减小,薄膜的光学带隙从3.86 eV降低至3.76 eV;当溅射功率为150 W时,为ZnS_X薄膜具有立方相结构及高结晶度的最优条件,薄膜的Zn/S比接近于标准化学计量比,达到1.23,可见光平均透过率大于80%,550 nm下ZnS_X薄膜的光学折射率为2.03。
|
关 键 词: | 薄膜 光学材料 射频磁控溅射 富锌硫化锌 溅射功率 |
本文献已被 CNKI 万方数据 等数据库收录! |
|