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| 厚层抗蚀剂曝光模型及其参数测量 | |
| 引用本文： | 刘世杰,杜惊雷,段茜,罗铂靓,唐雄贵,郭永康,杜春雷. 厚层抗蚀剂曝光模型及其参数测量[J]. 半导体学报, 2005, 26(5) |
| 作者姓名： | 刘世杰 杜惊雷 段茜 罗铂靓 唐雄贵 郭永康 杜春雷 |
| 作者单位： | 1. 四川大学物理学院,成都,610064;陕西理工学院物理系,汉中,723001 2. 四川大学物理学院,成都,610064 3. 微细加工光学技术国家重点实验室,成都,610209 |
| 基金项目： | 国家自然科学基金，国家重点实验室基金 |
| 摘 要： | 针对厚层抗蚀剂曝光过程中存在诸非线性因素的影响,更新Dill曝光参数的定义,建立了适合描述厚层抗蚀剂曝光过程的增强Dill模型.光刻过程模拟的准确性与曝光参数的测量精度有很大关系,为此,建立了实时曝光监测实验装置,测量了不同工艺条件、不同厚度抗蚀剂的曝光透过率曲线,并演绎计算出曝光参数随抗蚀剂厚度和工艺条件的变化规律.最后给出了采用增强Dill模型进行曝光过程的模拟和实验结果的分析. |
| 关 键 词： | 厚层抗蚀剂 光刻 曝光 增强Dill模型 曝光参数 |
Enhanced Exposure Model and Its Parameter Measurements for Thick Photoresist |
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| Liu Shijie,Du Jinglei,DUAN Xi,Luo Boliang,Tang Xionggui,Guo Yongkang,Du Chunlei. Enhanced Exposure Model and Its Parameter Measurements for Thick Photoresist[J]. Chinese Journal of Semiconductors, 2005, 26(5) | |
| Authors: | Liu Shijie Du Jinglei DUAN Xi Luo Boliang Tang Xionggui Guo Yongkang Du Chunlei |
| Abstract: | |
| Keywords: | |
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