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| 集成电路铜连线技术 | |
| 引用本文： | 徐毓龙,周晓华,徐玉成.集成电路铜连线技术[J].物理,1999,28(6):364-367. |
| 作者姓名： | 徐毓龙 周晓华 徐玉成 |
| 作者单位： | 西安电子科技大学 |
| 摘 要： | 简要介绍了集成电路铜连线技术及其应用 |
| 关 键 词： | 铜连线技术 低介电常数介质 RC常数 集成电路 |
COPPER INTERCONNECT TECHNOLOGY FOR ICS |
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| Xu Yulong\ Zhou Xiaohua\ Xu Yucheng.COPPER INTERCONNECT TECHNOLOGY FOR ICS[J].Physics,1999,28(6):364-367. | |
| Authors: | Xu Yulong\ Zhou Xiaohua\ Xu Yucheng |
| Abstract: | The copper interconnect technology for ICs and their applications are introduced briefly. |
| Keywords: | copper interconnect technology materials with low dielectric constants RC time constants |
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